GL P6 SR是天仁微纳新型全自动面板级步进式（Step & Repeat）高精度紫外纳米压印光刻设备，可将小面积模具通过步进式压印方式高精度复制到G6面板（1850x1500mm）基底上，拼版单元尺寸可灵活精确定义，轻松应对各种母模具由小转大需求，完美解决面板级微纳结构母模具（Master）制造困难问题。配合天仁微纳面板级压印设备（GL P6 R2P）或者辊对辊压印设备（GL 2200 R2R），可分别实现在刚性/柔性基底上大幅面、高效率微纳结构连续生产。 GL P6 SR纳米压印光刻设备可用于生产适配于天仁微纳面板级辊对版压印设备（GL P6 R2P）所需的大幅面母模具（Master），也适用于微透镜阵列、裸眼3D、AR/VR、LCD增亮膜以及电子纸等显示领域的研发和量产。

GL300 Cluster是功能强大的全自动纳米压印光刻生产线，它集成了从纳米压印晶圆预处理工艺，直至纳米压印光刻全套工艺步骤。标配天仁微纳CLIV（Contact Litho into Vacuum）压印技术，可实现200/300mm基底面积上全自动高精度（优于10nm*）、高深宽比（优于10:1*）纳米结构复制量产。设备采用模块化设计，用户可以根据工艺需求和生产节奏自由配置晶圆清洗、涂胶、烘烤、冷却、Plasma表面处理、AOI检测、Post Cure以及纳米压印的模块数量，达到最优的生产效率。设备支持全自动工作模具复制、工作模具自动更换、自动预处理和自动对位、自动压印、自动脱模，全部工艺过程在密闭洁净环境中进行，以保证压印结果质量。GL300 Cluster纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的大规模量产。

GL8 CLIV Gen2是天仁微纳新型全幅高精度紫外纳米压印设备，标配天仁微纳CLIV（Contact Litho into Vacuum）压印技术，可在200mm以下晶圆面积上实现高精度（优于10nm*）、高深宽比（优于10：1*）纳米结构复制。该设备支持自动复制柔性复合工作模具，工作模具具有精度高、寿命长等特点，可以显著降低大面积纳米压印工艺中模具使用成本。CLIV技术的应用保证了纳米压印结构的精度与高深宽比结构的完整填充，同时保证了大面积结构压印均匀性。GL8 CLIV Gen2纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的研发和量产。