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展商风采 | 天仁微纳:实现核心元件国产化意义重大

发布日期:2023-11-08
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10月29日-10月30日,2023年中国上海VR/AR产业博览会正式举行。活动现场不仅展示了 AR、VR、MR、AI、5G等新兴技术的科研成果,众多企业主、XR产业从业者们齐聚一堂,探索新科技与商业模式、发掘产业潜在价值。

 

天仁微纳受邀参展,公司董事长冀然也出席了本次活动,并以《纳米压印应用于微纳光学产品量产解决方案与最新进展》为题进行了分享。

 

实现核心元件国产化意义重大

 

在演讲中,冀然向到场嘉宾及观众详细介绍了纳米压印技术。纳米压印是一种具有纳米精度的结构复制技术,曾被美国麻省理工科技周刊评为“将改变世界的十大新兴技术之一”。随着纳米压印技术的渐渐成熟,近几年开始越来越多的被应用在微纳光学领域,如衍射光学元件 DOE、微透镜阵列、AR 波导光栅等。

 

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微纳光学元件的应用领域非常广泛,如 3D 传感、AR 眼镜、屏下指纹识别、手机摄像头、高端照明、光谱仪、医疗器械等。

 

据冀然介绍,在这些应用中,微纳光学元件都是最核心的元件,但是长期以来都是被国外垄断,高端产品只能依赖进口。在当前国际形势下,实现这些被掐脖子的核心元件国产化意义非常重大。

 

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展区内容

 

天仁微纳旗下有多款纳米压印光刻设备。这些设备中有的专门为大学、科研院所和企业产品研发所设计,也有的专门为晶圆级光学加工(WLO-Wafer Level Optics)而开发。配合天仁微纳的专业压印技术,这些设备可为生产提供更高的效率。

 

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UniPrinter 研发型Desktop纳米压印光刻设备

 

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GL4 R&D 研发型多功能纳米压印光刻设备

 

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GL8 CLIV Gen2  200mm 高精度紫外纳米压印光刻设备

 

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GL8 MLA Gen2  200mm WLO工艺紫外纳米压印光刻设备 晶圆级光学器件加工(WLO)

 

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GL150/300 CLIV  150/300mm 量产型高精度紫外纳米压印光刻设备

 

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GL300 MLA  200/300mm WLO工艺量产型紫外纳米压印光刻设备 晶圆级光学器件加工(WLO)

 

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GL300 Cluster  200/300 mm 全自动纳米压印光刻生产线

 

在此次展会的展区中,天仁微纳的工作人员向访客详细介绍了旗下设备及技术,也吸引了观众在现场了解聆听。

 

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关于天仁微纳

 

天仁微纳始终致力于研发和生产下一代微纳加工设备以及相关耗材产品,推动纳米结构在非传统领域的产业化运用,为新兴纳米结构应用提供全套解决方案。

 

公司产品主要为纳米压印设备及其配套材料与解决方案,适用于LED,微透镜阵列,光学元器件,半导体芯片,光电器件,生物器件等多种产品领域。公司核心竞争力是为客户提供纳米压印光刻技术整体解决方案,产品与服务涵盖纳米压印光刻相关的设备、模具、耗材、工艺开发以及技术咨询服务。

 

自2015年创办以来,经过短短几年的时间发展,公司的纳米压印设备和全套解决方案已经打败了国际诸多竞争对手,占领了国内微纳光学和生物芯片生产的超过90%市场份额。

 

结语

 

当前,国产纳米压印技术已经突破了光刻机的限制,对芯片制造领域具有重要的影响。在天仁微纳的持续积极研发之下,国产纳米压印技术在未来的技术发展中势必将发挥重要作用。

 

 

2023中国VRAR产业博览会已经落下帷幕,此次大会的成功举办,不仅推动了VRAR产业的发展,也提高了公众对VRAR技术的深刻感知。2024中国VRAR产业博览会将于明年5月再次启航,期待明年的再聚首,携手共创XR领域新阶段。

 

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